技术编号：9439147
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。等离子体处理在半导体工业中广泛用于半导体晶片和其他衬底的沉积、蚀刻、抗蚀剂移除、以及相关处理。感应等离子体源经常用于等离子体处理以产生用于处理晶片的高密度等离子体和活性物种。例如，感应等离子体源可以通过使用标准的13.56MHZ以及更低频的功率发生器来容易地产生高密度等离子体。任何低压或真空等离子体处理系统的通用元件是使低压等离子体体积与周围大气隔开的真空密封件。由于通过真空密封件泄漏的任何气体都可能改变进行处理的等离子体的化学组分，所以真空密封件的完整性...
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