技术编号：9470693
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。随着半导体制造技术进入32nm节点及以下，光阻的三维效应变得至关重要的；传统的光学邻近效应修正模型只考虑两维的效应(横向扩散)，忽略光阻的高度变化(垂直扩散)，认为其值近似为零，导致其对三维效应的预测精度有限；虽然严谨的光阻仿真器可以模拟三维效应，但是其运算速度不能满足整个版图设计的光学邻近效应修正及验证；人们需要一个即能精确预测三维效应又能满足整个版图设计光学邻近效应修正需要的计算速度的光学邻近效应修正模型。如图例I中所示是一个三维效应引起的工艺热点，图...
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