技术编号：9472750
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。目前，基板内部重要部件包括多种具有图案的膜层，膜层图案化的制作过程中，各种异物容易落在待图案化膜层的表面，在刻蚀工艺时会留下该膜层的残留物，引起显示效果不良。以有源层为例，现有的有源层图案化的方法，具体步骤包括步骤一、如图1a所示，在衬底基板01上依次形成栅极图形、有源层薄膜02和光刻胶层薄膜03 ;步骤二、如图1b所示，对光刻胶层薄膜03进行曝光显影，在待形成有源层021对应的区域保留光刻胶031 ;步骤三、如图1c所示，对有源层薄膜02进行刻蚀，形成有...
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