技术编号：9472839
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。专利说明在衬底的同一平面上集成多方阻薄膜电阻的工艺技术 所属 本发明涉及一种薄膜电阻集成的工艺技术。尤其是能够在衬底的同一平面上实现 集成多方阻薄膜电阻的工艺技术。背景技术 当前，电子系统向小型化，高性能化，多功能化，低成本高可靠性方向发展，系统集 成（SiP)应运而生。 在各种电子系统中，所有无源元件（对有源元件的）数量的比例典型值为10 1， 某些无线电通讯系统中比例高达50 1甚至100 1.其安装成本更是占到了所有成本的 70%左右1，因此无...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。