技术编号:9475731
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 本发明设及一种化学机械抛光组合物,其包含在范围介于2至6的抑值下具 有-15mV或-15mVW下的负C电位的表面改性二氧化娃粒子及N,N,N',N'-四(2-?基丙 基)乙二胺或甲横酸,W及关于N,N,N',N'-四(2-?基丙基)乙二胺或甲横酸作为化学机 械抛光(CM巧组合物的添加剂的用途。本发明还设及用于制造半导体装置的方法,包括在 化学机械抛光(CM巧组合物存在下化学机械抛光基材或层。 现有技术 在半导体工业中,化学机械抛光为在制造高级光子、微机电...
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