技术编号:9484146
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 光致抗蚀剂又称光刻胶,在微电子行业具有重要地位,可借助其曝光前后溶解性 能的变化,将电路图形转移到基板上制备微电子线路。 光致抗蚀剂主要是由感光树脂、感光剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混 合液体。感光树脂经光照后,曝光区能很快地发生化学反应,使得这种材料的物理性能,特 别是溶解性发生明显变化。经适当的显影处理,溶去可溶性部分,得到所需图像。 在光致抗蚀剂的主要组分中,感光树脂最为重要,其决定抗蚀剂的溶解速率,抗蚀 刻性等。目前感光树脂主要是由传统的...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。