技术编号:9493295
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 作为可在集成电路中组装的场效应晶体管(FET)的形成材料,使用可制作微细且 低电阻的电极的镍(Ni)电极。此外,通过向镍电极中添加铂(Pt)从而提高了热稳定性的 镍铂电极也已经实用化了。另一方面,伴随FET的微细化,期望开发出可确保电极表面积的 三维结构的立体型电极。对于立体型电极的制造,需要沿着立体形状形成均匀且相同比例 的电极薄膜,作为满足所述要求的方法,可利用CVD法等化学气相沉积法。因为镍薄膜或镍 化合物薄膜借助CVD法而能够具备适用于立体型电极...
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