技术编号:9497776
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及,综合浸泡和超声清洗方法,采用有机溶剂、无机溶剂和去离子水作为媒介,特别是针对拼盘、胶合在模具上的K9玻璃和熔融石英光学元件经过长时间精密抛光下盘后的清洗,对元件表面有机污染物和抛物粉残留的颗粒有较高清洗效率,清洗过程不涉及酸性、碱性溶液,对元件表面不造成化学和物理损伤,提高紫外激光辐照下的损伤阈值。属于光学冷加工领域。背景技术激光元件的损伤阈值是限制紫外激光器输出功率的关键元件,也是实现紫外激光器长工作寿命的关键因素之一。影响光学元件最终损伤阈...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。