技术编号：9507341
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。专利说明 发明领域 本发明的公开内容涉及光致抗蚀剂加工，和尤其涉及使用激光加工和气态环境加 工光致抗蚀剂以改进光致抗蚀剂的性能的系统与方法。 发明背景 光致抗蚀剂是在形成半导体器件的工艺中与在硅上形成小特征有关的半导体制 造中使用的一种光敏材料。如照相平版印刷术中所使用的，硅片用光致抗蚀剂涂布并置于 照相平版印刷工具内。待在硅片内形成的特定图案体现在掩模内且该掩模被辐照。掩模图 像突出在光致抗蚀剂上，所述光致抗蚀剂对光照波长敏感。然后使该光致抗蚀剂显影，使...
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