技术编号：9515030
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。薄膜材料在半导体工业领域存在广泛的应用。薄膜材料的制备一直是相关领域的研究热点问题。简单、低沉本、高质量的薄膜制备方法是相关领域一直研究的课题。液相成膜的方法是一种相对简单、高效和低成本的方法。其中，根据所使用的具体成膜手段的不同，可以分为提拉法，旋涂法，喷雾法，LB膜方法等等。提拉法使用已经配置好的前驱体溶液，将准备成膜的衬底垂直浸入溶液中然后将衬底缓缓拉出液面。在提拉过程中，溶液在液面和衬底界面处干燥而附着在衬底表面形成薄膜。提拉法需要控制好提拉的速度...
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