技术编号:9519669
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 随着诸如IXD、PDP和0LED特别是TFT-IXD的平板显示器用屏幕变大,已经广泛地 重新考虑采用铜或铜合金组成的单层,或者采用铜或铜合金/其它金属、其它金属的合金 或者金属氧化物的大于两层的多层,以便降低布线电阻并提高与介电硅层的粘附性。例如, 铜/钼层、铜/钛层或铜/钼-钛层可以形成为TFT-LCD的栅线和构成数据线的源/漏线, 并且可能有助于扩大显示器用屏幕。因此,需要开发具有优异蚀刻特性的组合物用于蚀刻 包含铜基层的这些金属层。 作为上面提到的...
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