技术编号：9523318
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及曝光后的抗蚀剂膜的显影方法、显影装置和该显影装置中使用的计算机能够读取的存储介质。背景技术当前，在进行基板的微细加工时，使用光刻技术在基板(例如，半导体晶片)上形成凹凸图案是广泛进行的。例如，在半导体晶片上形成抗蚀剂图案的步骤包括在半导体晶片的表面形成抗蚀剂膜；沿着规定的图案将该抗蚀剂膜曝光；和使曝光后的抗蚀剂膜与显影液反应来进行显影。历来公开有各种显影技术。例如，专利文献1公开了在静止的基板上形成由显影液形成的桨(储液)的显影方式。桨的形成中使...
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