技术编号:9525513
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明通常涉及集成电路的制造,尤其涉及在半导体装置上形成替代栅极结构的各种方法。背景技术目前,在例如微处理器、存储装置等集成电路中,在有限的芯片面积上设置并运行有大量的电路组件,尤其是晶体管。近几十年来已在增加电路组件(例如晶体管)的性能以及缩小其特征尺寸方面取得了极大的进步。不过,增强电子装置的功能性的持续需求迫使半导体厂商不断缩小电路组件的尺寸并提高电路组件的操作速度。但是,特征尺寸的持续缩小要求在重新设计制程技术、开发新的制程策略及工具方面做出巨大努...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。