技术编号:9540600
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。专利说明氮化铁硬掩膜和蚀刻残留物的去除 巧关申请的香叉引用 本专利申请要求2014年7月24日提交的62/028, 539号美国临时专利申请的优 先权。 发巧背景 随着尺度持续到甚至更小的特征尺寸,集成电路(IC)的可靠性在IC制造技术中 被越来越多地关注。迹线互补故障机制对器件性能和可靠性的影响对于集成方案、互连材 料和工艺流程具有更多的需求。需要最佳的低k介电材料及其相关的沉积、图案光刻、蚀刻 和清洁W形成双镶嵌互连图案。互连图案晶片制造的硬掩膜设计途...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。