技术编号:9541504
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。磁过滤阴极真空电弧等离子体沉积技术是目前先进的材料表面处理技术之一。该技术是在低真空条件下,利用阴阳极间的弧放电产生等离子体,通过磁过滤装置过滤掉大颗粒后沉积到工件表面的镀膜方法。磁过滤阴极真空电弧等离子体沉积技术因其离子离化率高、离子能量高,能够制备高质量的、致密的、光滑的各种超硬薄膜。多元复合薄膜比单一膜层具备更加优良的机械、光学、电学等性能。膜层中各元素的相对含量和均匀性分布直接关系到膜层的性能。目前,采用磁过滤阴极真空电弧等离子体沉积技术制备多元复...
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