技术编号：9546282
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 本发明涉及二元光掩模坯料、用于制备所述二元光掩模坯料的方法，和用于由所 述二元光掩模还料制备二元光掩模的方法。所述二元光掩模典型地通过ArF准分子激光光 刻用于半导体集成电路、电荷耦合器件（CCD)、液晶显示器（LCD)滤色器、磁头等的微细加 工。背景技术 在目前的半导体加工技术中，对大规模集成电路的更高的集成化的挑战对于电路 图案的小型化提出了日益增长的要求。对于进一步减小构造电路的布线图案的尺寸以及用 于构造单元（cell)的层间连接的接触孔图案小型...
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