技术编号：9546289
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 在光刻工艺中众所周知的是，如果抗蚀剂图案太高（高纵横比），那么抗蚀剂图案 可能因为来自所用的显影剂的表面张力而塌陷。已经设计多层抗蚀剂工艺（如三层和四层 工艺），其可以在需要高纵横比时解决此图案塌陷问题。此类多层工艺使用抗蚀剂顶层、一 或多个中间层以及底层（bottom layer)(或底层（underlayer))。在此类多层抗蚀剂工艺 中，使顶部光致抗蚀剂层成像并且以典型的方式显影以提供抗蚀剂图案。接着典型地通过 蚀刻将所述图案转移到一或多个中间层。...
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