技术编号：9548581
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。微纳米结构尺度的封闭管道的制备可以应用微机电系统(MEMS)的工艺在一块硅片上实现。一般来说，MEMS中制备微纳米封闭管道首先是在硅片上涂覆一层光刻胶作为牺牲层，所述牺牲层一般包括PI等有机材料，或铜、硅等无机材料，或直接在硅片表面制备的一层氧化层，利用特制的掩膜版使部分光刻胶分解后显出特定互联图形；而后沉积结构层，在结构层上通过刻蚀工艺制备一通孔到牺牲层表面为止；随后注入丙酮或其它碱性溶剂，溶剂透过通孔溶化光刻胶，光刻胶制成的牺牲层就被去除了，结构层下形...
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