技术编号：9560843
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 这里提供的背景描述是为了总体呈现本公开的背景的目的。在此背景技术部分中 描述的程度上的当前指定的发明人的工作，以及在提交申请时可能无法以其他方式有资格 作为现有技术的说明书的各方面，既不明确也不暗示地承认是针对本公开的现有技术。 衬底处理系统可被用于在衬底上执行膜的沉积和/或蚀刻。衬底处理系统通常包 括具有衬底支撑件的处理室，衬底支撑件诸如底座、静电卡盘、板、等等。衬底（例如半导体 晶片）可以被布置在衬底支撑件上。在化学气相沉积（CVD)或原子层沉积（A...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。