技术编号:9565186
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。作为等离子处理装置,已知有专利文献1和专利文献2中公开的等离子处理装置。在这些等离子处理装置中,在将基板保持在由环状框架和保持片构成的搬运载体上的状态下,对基板进行等离子切割、等离子灰化等等离子处理。而且,在进行等离子处理时,通过以罩覆盖环状框架和保持片,不会使环状框架和保持片暴露于等离子体。专利文献1日本专利第4858395号公报专利文献2美国申请公开第2012/0238073号公报发明内容然而,在上述现有的等离子处理装置中,在通过等离子体加热罩而搬出搬...
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