薄膜晶体管的制作方法技术资料下载

技术编号:9565936

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随着科技的发展,电子组件的微型化已成趋势。当然,薄膜晶体管也不例外。在现有技术中,薄膜晶体管包括栅极、源极、漏极、蚀刻阻挡层以及通道。源极、漏极同属一膜层,且分别设于通道两侧。栅极与通道重叠。蚀刻阻挡层具有暴露出通道顶面的两个通孔。源极与漏极分别填入这两个通孔,而与通道电性连接。然而,这两个通孔的设置使得通道必需保留被通孔暴露出的面积,而不利于薄膜晶体管尺寸的缩减。此外,由于源极与漏极是分别填满蚀刻阻挡层的两个通孔而与通道电性连接,因此薄膜晶体管的通道宽度...
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