技术编号：9575424
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。在制造电路板的制程中，需采用光学微影蚀刻的步骤在电路板基板上形成电路图案(pattern)，该光学微影蚀刻是在将电路板基板上涂布光阻层，并利用曝光设备曝光，再借由显影、蚀刻的过程使电路图案形成在该电路板基板上。其中，该曝光设备将光投射至曝光平面上而形成曝光区域，涂布有光阻层并设置有光罩的电路板基板对位放置于该曝光区域内，借由激发光让光阻感光来发生化学反应，使得被曝光的光阻与被光罩遮避的光阻对显影液具有不同的溶解度。该曝光区域内有曝光均匀度的要求，即在该曝光...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。