技术编号：9583714
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 随着半导体、微电子机械系统（MEM巧等领域中进一步尺寸缩小的趋势，通过使用 模具，将现有光刻技术与在基板（晶片）上使抗蚀剂（光固化性组合物）成形的微细加工 技术组合W在基板上形成抗蚀剂图案的技术已吸引了许多关注。该技术也被称为光压印技 术，并可用于在基板上形成亚十纳米级的微细结构。在光压印系统中，首先将抗蚀剂施涂到 基板的图案形成区域，然后通过使用其上已形成图案的模具，使该抗蚀剂成形。然后，施加 光W使抗蚀剂固化，并分离模具。结果，树脂图案（光固化产物）...
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