技术编号:9583715
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 半导体设备和微电子机械系统(MEM巧的微小化的要求提高了对现有光刻法和称 为光压印技术的其中使用模具使晶片上的抗蚀剂(光固化性组合物)成形,W在所述基板 上形成抗蚀剂图案的纳米制造技术的组合的关注。根据该技术,可在基板上形成亚十纳米 级的微细结构。在光压印系统中,首先将抗蚀剂施涂到基板上的图案形成区域,然后通过使 用其上已预先形成图案的模具,使抗蚀剂成形。然后用光照射抗蚀剂W使其固化,并且使固 化产物与模具分离。结果,在基板上得到树脂图案(光固化产物)。...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。