技术编号:9590958
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 在现有的光纤预制棒外包层制造方法中,外部气相沉积法(0VD)是制备低水峰光 纤预制棒性价比最优的工艺。该工艺使用氨氧焰使SiCl4原料发生高溫水解反应,在小直 径忍棒外表面沉积一定量的Si化粉末制得粉末光纤预制棒,然后使用与忍棒烧结相同的方 法将粉末预制棒烧结成透明预制棒,再经过脱气处理后即制得光纤预制棒。 外部气相沉积法(0VD)产出的电0、废气肥1、粉尘Si〇2,通过沉积腔体内部废气排 风口进行排除。预制棒外包层在沉积过程中,棒体表面气流会影响预制棒...
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