技术编号:9599179
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。专利说明基板处理装置的基板载置台本申请是2010年11月17日提出的申请号为201010582558.7的同名申请的分案申请。本发明涉及对以半导体晶片为代表的基板实施成膜、蚀刻等规定处理的基板处理装置的基板载置台。背景技术对作为基板的晶片实施作为等离子体处理的例如蚀刻处理的基板处理装置具备收纳晶片的收纳室(腔室)、和配置在该腔室内的载置晶片的基板载置台。基板处理装置在腔室内产生等离子体,利用该等离子体对载置于基板载置台上的晶片实施蚀刻处理。基板载置台在上部...
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