一种避免浅沟槽隔离结构出现深度负载效应的方法技术资料下载

技术编号:9599181

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集成电路是一种微型电子系统,它采用微图形加工技术,把一个电路中所需的晶体管、二极管、电阻、电容和电感等元件及布线互连一起,制作在半导体晶片或介质基片上从而实现特定的功能。本发明所指的集成电路特指硅基集成电路。当前硅基集成电路工艺典型的主要包括了双极类型工艺和互补金属-氧化物-半导体工艺以及双极-互补金属-氧化物-半导体工艺,还有双极-互补金属-氧化物-半导体-双扩散M0S工艺等。利用该等工艺制作的电路要实现正确的功能,集成电路内部各个器件之间必须相互隔离,...
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