技术编号：9615686
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体制造设备，特别涉及一种主基板及其制造方法和光刻机。背景技术主基板和测量支架是光刻机整机框架设计的核心，它既需要具备高模态的特征指标，以满足短期稳定性动态性能的需求，同时又必须在材料和传热领域寻找到一个很好的平衡点以满足长期热稳定性的需求。此外，随着物镜和测量装置质量的增加，又迫使主基板和测量支架设计要满足低质量、轻量化的发展趋势。因此主基板和测量支架的设计方向需要具备高模态和轻量化的双重特征。就空间约束而言，由于投影物镜的发展使得共轭距不断...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。