具有增强的覆盖质量的光刻工艺和系统的制作方法技术资料下载

技术编号:9615692

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半导体集成电路(1C)产业经历了指数式发展。1C材料和设计中的技术进步已经产生了数代的1C,其中每代1C都具有比上一代1C更小和更复杂的电路。在1C发展过程中,功能密度(即,每一芯片面积上互连器件的数量)通常已经增加而几何尺寸(即,使用制造工艺可以制造的最小部件(或线))却已减小。通常这种按比例缩小工艺通过提高生产效率和降低相关成本而带来益处。这种按比例缩小工艺也增加了加工和制造1C的复杂度,并且,为了实现这些进步,需要在1C加工和制造中的类似发展。例如,...
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