技术编号：9620763
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。专利说明本发明涉及如权利要求1所述的制造用于在基底或软印模上施加纳米结构的具有印模结构的印模的方法、如权利要求7所述的相应装置以及如权利要求5所述的结构印模。在半导体工业中，必须对材料进行结构化工艺以能够制造相应的功能元件。过去几十年最重要的结构化工艺之一迄今仍是光刻术。然而近年来除光刻以外，压印技术已被承认是新的替代性的结构化技术，其不仅，但目前仍主要用于结构化高度对称的尤其重复性的结构元件。通过压印技术，可通过印模工艺直接在压印物料中建立表面结构。由此...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。