亚微米级球形二氧化硅微粉的制备方法技术资料下载

技术编号:9626661

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随着电子设备向小型化、薄型化方向发展,半导体封装用填料粒径希望越来越小,为了提高填料在半导体封装中的填充量和流动性,需要制备球形度高的亚微米级填料。现有技术中专利号为200410012854.8的专利,是以硅酸盐或碱性硅溶胶与酸反应,搅拌、静置陈化后分离,水洗、烘干,得粒度5 μπι -10nm亚微米和纳米级球形二氧化硅粉; 申请号为201410015493.6的专利,是以有机硅酸酯为原料,在高分子分散剂聚乙二醇、乙二醇和碱性环境下,经水解、离心分离和真...
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