技术编号:9628373
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。氧化铬(Cr203)薄膜是近年来发展起来并受到重视的薄膜材料之一,它具有化学稳定性强、抗高温性好、摩擦系数小、硬度高、抗磨蚀能力强、与基体结合力强等特点,被广泛用于微电子器件的阻挡层、磨损器件的保护层,以及气体轴承汽车的汽缸内壁等。目前,Cr203薄膜的主要制备方法有离子镀、磁控溅射、原位氧化等。磁控溅射沉积的薄膜具有表面平整、致密、精度高等优点。虽然很多文献对溅射法制备Cr203薄膜有详细报道,但因Cr203薄膜和金属基底热膨胀系数相差很大,直接在金属上...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。