技术编号:9628384
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 在现有技术中,蒸镀或者溅射法被用于。应用电子束或者高频的 真空蒸镀法等被广泛用于蒸镀,并且,用直流电源或者交流电源产生等离子体,随后,用等 离子体溅射阳极金属,在阴极沉积金属的手法等被广泛用于溅射法中。但是,蒸镀或者溅射 法需要真空工序,为此,在成本花费、大型化、量产化上还存在课题。 并且,熟知涂敷方法等被广泛用于。涂敷金属膏,干燥之后煅烧的 手法被用于涂敷方法。但是,这样的涂敷方法中,煅烧需要650Γ以上的高温,金属膜形成方 法未必令人满意。另外,已知...
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