技术编号:9640640
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。半导体工业中,经常需要氢气、氮气、惰性气体(氦、氖、氩、氪、氙)、还原性气体(砷化氢、磷化氢、氨气、硅化氢等),并且需要这些气体具有“超高纯度”,尤其是需要具有极低级含量的氧气、水、二氧化碳、一氧化碳等杂质。市场上的气体纯化器,通常是用铝、镁、锆等“活泼金属”担当吸气剂。当氢气、氮气、惰性气体(氦、氖、氩、氪、氙)、还原性气体(砷化氢、磷化氢、氨气、硅化氢等)通过这些活泼金属时,其中的氧气、水、二氧化碳、一氧化碳被这些活泼金属吸收,气体得到纯化。然而这些活...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。