技术编号：9646034
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。掩模板用于进行曝光，进行构图工艺。在显示面板的制备过程中，需要使用掩模板进行多次曝光工艺，以制备显示面板中的薄膜晶体管、像素电极、黑矩阵、彩色滤光片等结构。现有的掩模板如图1所示，其包括透明基板10和形成在透明基板10下侧表面的掩膜图案11。形成掩模图案11的材料具体可以为金属铬，其附着在透明基板10的下侧表面，形成不透光的区域。在进行曝光工艺时，光源在透明基板10的上侧，其向下方照射光线，所示光线透过掩模图案11未覆盖的区域，从掩模图案11所在一侧射出，...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。