技术编号:9650993
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。典型的工业电感耦合式等离子体(ICP)源使用两个平的(flat)或垂直线圈的布置来控制中心至边缘(例如,相对于被处理的基板)的等离子体轮廓,并且允许在处理期间(例如,在蚀刻应用中)的基板层级(substrate level)的均勾度可调谐性(tunability)。在电流正在相同的方向上流动(被指示为“同相”(“in phase”))的典型的垂直式双线圈布置中,由于在基板层级上的、线圈之间的电场的相长干涉(constructive interference...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术注重原理思路,无完整电路图,适合研究学习。