技术编号:9661806
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 靶材是磁控溅射镀膜的溅射源,靶材的好坏对薄膜的性能起至关重要的作用,因 此高品质的靶材是保证薄膜质量的前提和基础,大量研究表明,影响靶材品质的因素主要 有纯度、致密度、结构取向、晶粒大小及分布、尺寸、形状等,其中衡量靶材品质最重要的指 标是靶材的相对密度、纯度、结晶取向及其微观结构的均匀性。溅射过程对靶材的致密度的 要求很高,如果靶材结构的致密性较差,具有高能量密度的Ar+轰击靶材时,会导致靶表面 大块物质的剥落,从而使得薄膜表面具有较多的大颗粒。这将严...
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