技术编号：9661815
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。在光学镀膜领域，目前应用最广泛的是基于蒸发原理的蒸镀技术。其基本特征在于蒸发源的类点源特性，这导致了在元件上蒸镀的膜厚空间分布的不均匀性。为解决这一不均匀性，人们利用元件在镀膜机内转动的方式实现元件上各点膜厚分布的均化效果，通常采用的方式包括单纯的元件自转，或同时也围绕镀膜机中轴线进行公转。采用这样的方法，通常可以使平面元件的膜厚均匀性得到一定的改善，但并不能完全解决问题，因此还必须在此基础上增加膜厚修正挡板才能将膜厚分布调整至所需范围内，这些挡板的形状必...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。