技术编号：9685757
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。多孔薄膜微电子学(低介电常数膜)、细胞膜、催化膜、传感器等诸多领域中具有较为广阔的应用。其中一个很重要的应用是对在超大规模集成电路(ULSI)装置的先导工艺后道互联(advanced interconnects)中所使用的低介电常数膜(简称低_k膜)进行评价。与此同时，传感器等领域的薄膜材料的应用正在迅速扩大。在以下的专利文献1?4以及非专利文献中记载了利用椭圆偏光法(e 11 ipsometry)对多孔低_k膜进行评价的方法。专利文献1US 6,435,...
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