技术编号：9685769
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。极紫外光刻(ExtremeUltrav1let Lithography，EUVL)技术是使用EUV波段，主要是13.5nm波段，进行光刻的微纳加工技术。目前，EUVL技术已经能够实现7nm线宽的刻蚀工艺，并具备进一步缩小刻蚀线宽的可能性。这在大规模集成电路制造领域具有重要意义，能够实现更大密度的元件集成，以及更低的能耗。极紫外光刻使用波长为10-14nm光源照明，由于几乎所有已知光学材料在这一波段都具有强吸收，因此极紫外光刻机需要在真空环境下工作。在极紫外...
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