技术编号：9686483
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 光刻是将掩模板（mask)上图形形式的结构通过曝光、显影等步骤转印到涂有光 刻胶（Photoresister，简称PR)的衬底表面的工艺过程，为了确保将图形正确转移到衬底 的目标位置上，掩模板与衬底的精确对准是重要的。尤其是需要经过多次光刻工艺的制造 过程，例如芯片制造过程。在芯片制造过程中需要在娃片上进行多次光刻工艺，在每次光刻 工艺过程中本次光刻形成的图形与上次光刻形成的图形之间需要保证有正确的相对位置， 如此才能保证多次光刻工艺形成的图形依次层叠形...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。