技术编号：9686585
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 本发明设及液晶显示器的阵列基板的结构设计，尤其设计一种监控阵列基板上的 金属膜厚的方法。 技术背景 薄膜的性质和结构主要决定于薄膜的成核与生长过程，在气相沉积技术中为了监 控薄膜的性质与生长过程，必须对沉积参数进行有效的测量与监控。在所有沉积技术中，沉 积膜厚是最重要的薄膜沉积参数之一。目前，在实际的成膜过程中，在线监控膜厚的操作都 比较繁琐和复杂，生产成本都相对较高，比如光学方法和机械类方法都需要增加特定的测 量设备。 现有液晶面板公司使用最多且结果更...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。