技术编号：9686632
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 本发明涉及集成电路制造领域的设备，特别涉及一种应用于光刻测量技术中的套 刻误差测量装置及方法。背景技术 根据半导体行业组织（InternationalTechnologyRoadmapfor Semicomluctors，ITR巧给出的光刻测量技术路线图，随着光刻图形关键尺寸（CD)进 入22皿及W下工艺节点，特别是双重曝光值oublePatterning)技术的广泛应用，对光 刻工艺参数套刻（overlay)的测量精度要求已经进入亚纳米领域。由于成像分...
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