技术编号:9689206
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。在半导体制造过程中,通常同时使用多台离子注入机。尽管在各个离子注入机上设定了相同的工艺参数,但实际进行离子注入的过程中,不同的离子注入机的注入能量往往不同,注入剂量也不同。因此,在进行批量生产之前,需要对多台离子注入机的工艺参数进行匹配,以使每台离子注入机的注入能量相同,注入剂量也相同。在现有技术中,通过测量两台离子注入机分别进行离子注入所获得的晶圆的电阻值,若电阻值不同则调节其中一台离子注入机的剂量控制单元的设备参数,然后重复执行上述过程,直至电阻值相同...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。