一种提高鲁棒性的rf-ldmos器件结构的制作方法技术资料下载

技术编号:9689444

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LDMOS(横向扩散金属氧化物半导体)器件由于具有较高的功率增益、优异的线性度和良好的散热等突出性能,被广泛应用于射频和微波功率放大器中,而且由于制造技术与成熟的CMOS工艺兼容,成本低廉,长期以来在通信领域占用相当大的市场份额。LDMOS器件的击穿电压和导通电阻是一对相互矛盾的参数,为了获得较大的击穿电压就必须加大的漂移区长度,这会使导通电阻显著增加,而导通电阻是影响器件和功放电路输出功率和效率的关键指标,为了获得更好地性能,必须将导通电阻控制在合理得范...
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