技术编号:9693378
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。通常,为了制造太阳能电池、半导体装置和平板显示装置,需要在基板的表面上形成预定的薄膜层、薄膜电路图案或光学图案。因此,可以执行半导体制造工艺,例如,在基板上沉积预定材料的薄膜的薄膜沉积工艺(thin film deposit1n process)、通过使用光敏材料来选择性地曝光薄膜的照像工艺(photo process)和通过选择性地去除薄膜的曝光部分而形成图案的蚀刻工艺(etching process)。可以使用化学气相沉积(CVD)或原子层沉积(ALD...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。