技术编号：9693403
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。专利说明本发明涉及一种保持架、用于制造该保持架的方法以及该保持架的使用。在半导体器件尤其是硅太阳能电池的生产中，经常进行等离子体驱动的汽相淀积，专业术语称为等离子体增强化学汽相淀积(PECVD)。在此情况下，将要被涂覆的半导体基底通常被设置在保持架上。在PECVD中，所谓的船通常被用作保持架。在硅太阳能电池的工业化制造中，硅太阳能电池基底经常被设置在所述船上(这些船有时也被称为PECVD船)，并在PECVD淀积的场合中被设置了由氮化硅构成的抗反射层。然而，...
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