技术编号：9699870
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 在平板显示器（FPD)(如液晶显示器（IXD)或等离子显示面板（PDP))的制造中， 需要形成各种类型的图案（如电极或黑底、彩色滤光器、隔断墙（partition wall)、和薄膜 晶体管）的工艺。 作为形成图案的工艺，经常使用如下用于形成图案的方法通过使用光敏抗蚀剂 和光掩模得到通过曝光和显影可选择性移除的光敏抗蚀图案，并使用所述光敏抗蚀图案。 光掩模工艺存在的问题在于经常使用如光敏抗蚀剂或者显影溶液的材料，需要使用昂贵 的光掩模，并且工艺步骤复杂或...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。