技术编号:9709795
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。为了制造半导体器件或液晶显示器,在基板上执行多步工艺(例如光刻工艺、刻蚀工艺、灰化工艺、离子注入工艺、薄膜沉积工艺和清洗工艺)是有必要的。通过对形成在基板上的薄膜层(例如,金属层、氧化层、多晶硅层或光刻胶层)进行刻蚀工艺,能够形成具有预期形状的图案。刻蚀工艺可分为两种方法湿法刻蚀方法和干法刻蚀方法。在湿法刻蚀方法中,使用处理溶液刻蚀基板或薄膜层,而在干法刻蚀方法中,使用等离子体或离子束刻蚀基板或薄膜层。通常,湿法刻蚀方法可包括在旋转基板的中央区域提供刻蚀溶...
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