技术编号：9717528
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。对样品进行表面清洁、预处理等工艺，广泛应用于半导体、光伏和电子产品等行业。对样品表面清洁，去除有机杂质，有利于确保广品质量，提尚广品性能;对样品表面进tx预处理，是为下一步生产工艺做好准备，有利于提高下一步工艺的成品率、产品性能等。目前，对于产品表面清洁的方法有溶液清洁、紫外线清洁、臭氧清洁和等离子体清洁等。等离子体清洁与其他清洁方式相比，由于其清洁速度快、便于自动化等优点，更适用于自动化设备。旋涂工艺由于其对预处理材料的广泛适用、成本低廉、便于操作等优点...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。